فصلنامه سرامیک ایران
جلد 16، شماره 2 - ( تابستان 1399 )
جلد 16 شماره 2 صفحات 71-66 |
برگشت به فهرست نسخه ها
Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
مقصودی مهری، خامنه اصل شاهین. کاربرد نیمهرساناهای اکسیدی نانوساختار (TiO2، ZnO، Fe2O3، WO3 و ...) برای شکافت فوتوالکتروشیمیایی آب. فصلنامه سرامیک ایران. 1399; 16 (2) :66-71
کاربرد نیمهرساناهای اکسیدی نانوساختار (TiO2، ZnO، Fe2O3، WO3 و ...) برای شکافت فوتوالکتروشیمیایی آب
دانشگاه تبریز ، m.maghsoudi9372@gmail.com
چکیده: (3314 مشاهده)
شکافت فوتوالکتروشیمیایی و فوتوکاتالیستی آب با استفاده از نیمهرساناهای اکسیدی نانوساختار یکی از روشهای موثر برای ایجاد هیدروژن است. نیمهرساناهای اکسیدی به عنوان فوتوالکترود نقش مهمی در فعال شدن فرآیندهای احیا و اکسیداسیون شیمیایی در حضور نور دارند. با جذب نور توسط فوتوالکترودها الکترونها تهییج شده و از طریق واکنش کاهش- اکسایش، جفت الکترون- حفره ایجاد میشود. جداسازی بار (جفت الکترون- حفره) و انتقال آن در شکافت فوتوالکتروشیمیایی و فوتوکاتالیستی آب موضوع مهم و اساسی است. نانومواد نسبت سطح به حجم بالایی دارند که جداسازی بار را تسهیل کرده و از بازترکیب جفت الکترون- حفره جلوگیری میکنند. عوامل موثر بر مکانیزم شکافت آب خصوصیات الکترونی و ساختاری فوتوکاتالیست و فوتوالکترود مورد استفاده است، به همین خاطر بطور گسترده مورد تحقیق و پژوهش قرار میگیرند. در این مقاله مهمترین و پرکاربردترین نیمهرساناهای اکسیدی و بهبودهای اخیر این نیمهرساناها گزارش شده است.
نوع مطالعه: پژوهشي |
دریافت: 1399/4/10 | پذیرش: 1399/5/1
دریافت: 1399/4/10 | پذیرش: 1399/5/1
ارسال پیام به نویسنده مسئول
| بازنشر اطلاعات | |
 |
این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است. |