فصلنامه سرامیک ایران
جلد 16، شماره 3 - ( پاييز 1399 )
جلد 16 شماره 3 صفحات 61-45 |
برگشت به فهرست نسخه ها
Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
Hassan-Aghaei F, Mohebi M M. Evaporation Induced Self-Assembly Method for Mesoporous Silica Thin Films Synthesis: Mechanism, Affecting Parameters and Capabilities. Jicers 2020; 16 (3) :45-61
URL: http://jicers.ir/article-1-301-fa.html
URL: http://jicers.ir/article-1-301-fa.html
حسن آقائی فاطمه، محبی محمدمسعود. ساخت پوشش‌های مزوسیلیس به روش خودآرایی القاشده با تبخیر؛ مروری بر سازوکار، عوامل مؤثر و قابلیت‌ها. فصلنامه سرامیک ایران. 1399; 16 (3) :45-61
دانشگاه بین المللی امام خمینی (ره) ، m.mohebi@eng.ikiu.ac.ir
چکیده: (2882 مشاهده)
لایه‌های نازک مزوسیلیس دارای اهمیت و کاربرد زیادی در حوزه‌های مختلف هستند. کنترل شکل، اندازه و میزان تخلخل‌های پوشش‌ها، نقش مهمی در عملکرد این پوشش در کاربردهای مختلف ایفا می‌کند. به‌منظور دستیابی به ویژگی‌های موردنظر، بهکارگیری روشهای مناسب اهمیت بسیاری دارد. در میان روشهای مختلفی که برای ساخت پوشش‌های مزوسیلیس مورد استفاده قرار می‌گیرند، پرکاربردترین روش، روش خودآرایی القاشده با تبخیر است. امکان بهکارگیری انواع عوامل فعال سطحی برای ایجاد تخلخل، ساخت انواع پوشش با ویژگی‌های مختلف، قابلیت اعمال پوشش بر انواع زیرلایه با شکل و جنس‌های گوناگون (فلزی، سرامیکی و پلیمری) از جمله مزایای این روش هستند. مهم‌ترین بخش روش خودآرایی القاشده با تبخیر، آماده‌سازی محلول است و برای این کار نیاز است واکنش‌های صورت گرفته، مراحل آن و نقش هر یک از اجزا به‌خوبی شناخته شود. در این مقاله مروری به روش خودآرایی القاشده با تبخیر برای ساخت پوشش‌های مزوسیلیس، عوامل مؤثر بر آن و مهم‌ترین قابلیت‌های این روش پرداخته می‌شود.
نوع مطالعه: پژوهشي |
دریافت: 1399/2/12 | پذیرش: 1399/4/23
دریافت: 1399/2/12 | پذیرش: 1399/4/23
ارسال پیام به نویسنده مسئول
| بازنشر اطلاعات | |
 |
این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است. |