دلوجی ولی، آساره نسترن. مطالعه توپوگرافی و خواص ساختاری لایههای آمورف کربن نیکل با توزیعهای متفاوت فلزی. فصلنامه سرامیک ایران. 1397; 14 (4) :25-28
URL: http://jicers.ir/article-1-265-fa.html
دانشگاه ملایر ، dalouji@yahoo.com
چکیده: (4809 مشاهده)
در این مقاله خواص ساختاری لایه های آمورف کربن نیکل ساخته شده از هدفهای گرافیتی با مقادیر مختلف نیکل از 87/1 تا 64/4 درصد مورد مطالعه قرار می گیرند. توپوگرافی در لایههای انباشت شده در 78/1، 21/3 و 64/4 درصد دارای یک افت و خیزی حول یک نانومتر ولی در لایههای انباشت شده در 92/3 درصد دارای افت وخیزی حول 20 پیکومتر است. لایههای انباشت شده در 92/3 درصد دارای کمترین مقدار سد پتانسیل در حدود 00031/. الکترون ولت است. این لایهها همچنین دارای کمترین مقدار اندازه عرضی نانوذرات در حدود 40 نانومتر هستند. انباشت لایهها دارای یک فرآیند گذار غیرفلز-فلز در 92/3 درصد است.
نوع مطالعه:
پژوهشي |
دریافت: 1397/10/21 | پذیرش: 1397/12/2